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제품소개
Product descriptions
- Sputtering System
- Evaporation System
- PE-CVD System
- Ion Plating System
- Others System
- Vacuum components
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친환경미래산업, 진공장비의 선봉주자!
열린 마음, 창의적인 생각, 적극적인 행동으로
미래지향적인 진공박막장비분야에 최고가 되겠습니다.
PE-CVD System
PECVD
장치개요 - 본장치는 화학물질을 진공상태에 주입하여 플라즈마를 이용하는 방식으로서 높은 에너지를 얻은 전자가 중성이용하는 방식으로서 높은 에너지를 얻은 전자가 중성상태의 가스분자와 충돌하여 가스분자를 분해하고 이 분해된 가스원자가 기판에 부착하는 반응을 이용하여 박막을 증착하는 장치
구성 - ∙ Chamber size : Φ800 x 1,500 L
∙ Ultimate pressure : 5.0 x 10-6Torr below
∙ Pumping speed : 5.0 x 10-5Torr/10min below
∙ Coating material : Metal (Al etc..)
∙ Rotary pump + Mechanical booster+ D, Pump
∙ Gas : HMDSO,N2O,Ar
∙ DC Power Supply
∙ AC Power Supply
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